Mô tả
– Dùng trong môi trường ô nhiễm , có khí độc , HCHC + Acid ( nồng độ thấp )
– Có CO,CQ từ Hàn Quốc – Đạt tiêu chuẩn về Châu Âu
– Cấu tạo khóa kép giúp phòng tránh trường hợp phin lọc bị rời ra
– Có nhiều kích thước để lựa chọn phù hợp với khuôn mặt
+ Các loại phin dùng cho mặt nạ RM 7200 :
| Phin Lọc Bụi | HCHC + Acid | HCHC+Acid + Amoniac | ||
| Phòng bụi | Phòng độc | Kết hợp phòng bụi | Phòng độc | Kết hợp phòng bụi |
 |
 |
 |
 |
 |
| Dùng trong môi trường có bụi/ sương/ khói | Dùng trong nơi phát sinh hơi khí độc hữu cơ/ hơi acid | Nơi phát sinh thêm cả bụi | Dùng trong nơi phát sinh hơi khí độc hữu cơ/ hơi acid | Nơi phát sinh thêm cả bụi |
Đánh giá
Chưa có đánh giá nào.